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真空镀膜和涂层技术的发展与应用解说：

镀钛工艺处理温度可控制在150～500℃以下，因此镀钛工艺可用于多种材质基体的涂层，不仅具有多姿多彩的装饰效果，更重要的是采用PVD技术可使涂层具有优异的理化特性，大幅度强化基体表面诸如硬度、摩擦系数等物理特性指标。

PVD真空镀膜(物相沉积)技术在二十世纪七十年代末，开始应用在提高机械力学性能的硬质膜方面，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。较初在高速具领域的成功应用引起了**工具制造业的高度重视，人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时

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对于磁控溅射镀膜气体压强方面：

(1) 不锈钢真空镀膜直流和中频脉冲磁控溅射的工作气体压强一般在 0.3~0.8Pa 之间(典型值为5×10-1 Pa);

(2) 射频磁控溅射镀膜可以在10-1~10-2 Pa工作气体压强下正常进行。

(3) 不锈钢真空镀膜真空腔室巨细、气体流量、真空抽速和闸板阀开合角度等多种要素都或许影响到工作气体压强。工作气体压强的较终查看值，实际上应看作是气体流量-真空抽速与闸板阀开合角度等参数的动态平衡的成果。

(4) 有些阴极靶材的磁控溅射镀膜技能(如对膜层的纯度和表面粗造度恳求不高)还可以在1pa ~ 10Pa，甚至更高的工作气体压强下进行堆积镀膜。

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