问: 请问采用PVD镀膜技术镀出的膜层有什么特点?
答: 采用PVD镀膜技术镀出的膜层,具有高硬度、高耐磨性.主要意思是指在真空条件下,在真空状态注入氩气,氩气桩基靶材,靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。在常规环境下具有抗化学反应、不褪色,不失去光泽、耐磨损、耐刮擦、不易划伤,且可镀材料广泛,与基体结合力强。
PVD镀膜膜层的厚度为微米级,厚度较薄,一般为0.3μm ~5μm,其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm ~1μm ,因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能,镀后不须再加工。
PVD镀膜技术的特点:
1、膜层与物件表面的结合力强,保色更加持久,耐磨性强
2、离子的绕射性能好,能够镀形状复杂的物件
3、膜层沉积速率快,生产效率高
4、可镀膜层颜色种类广泛
5、稳定性高、环保
PVD镀膜的整个工艺流程:QA品检—上挂—清洗—烘烤—电镀—出炉—下架—全检